Fedezze fel a Sefiros NaSha nanoszivacsok jelenségét, amely forradalmat jelent a hibátlan smink alkalmazásában. Azonban a NaSha nanoszivacsok többet is kínálnak. Egy speciális, hidrofil poliuretán mikropolimernek köszönhetően teljesen hipoallergének. Egyedi gyártási módszer létrehoz nanoméretű buborékokat a szivacsban a hő és hideg váltakozásával, így azt puha, mégis ugyanakkor rendkívül tartós eszközzé téve. Ennek eredményeképpen a NaSha szivacs alkalmas mind száraz, mind nedves smink alkalmazására. A mikroporózus anyag biztosítja az egyenletes és sima smink felvitelét. Ergonomikus formája könnyen alkalmazkodik minden bőrkontúrhoz. Lépjen be a modern technológia világába a különleges Sefiros NaSha nanoszivacsokkal, és fedezze fel, hogy Ön a legjobbat érdemli. Szeressen bele a Sefiros NaSha nanoszivacs egyedi formájába, amely kifejezetten a kifogástalan smink és egyéb kozmetikai alkalmazásokhoz lett tervezve. A nanoszivacs hegyes oldala pontos alkalmazást tesz lehetővé az arc nehezen elérhető területein. A nanoszivacs ferde oldala könnyű alkalmazást biztosít. Az ergonomikus forma tökéletes a kontúrozáshoz is. Ha vékonyabb sminkréteget kíván felvinni, egyszerűen nedvesítse meg a szivacsot. Érje el a tökéletes megjelenést bármilyen nem kívánt csík nélkül a Sefiros NaSha nanoszivacsok segítségével a smink alkalmazásához.

Galéria